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![微细加工技术](https://www.shukui.net/cover/40/30801205.jpg)
- 刘明,谢常青,王丛舜等编著 著
- 出版社: 北京:化学工业出版社
- ISBN:7502560777
- 出版时间:2004
- 标注页数:177页
- 文件大小:35MB
- 文件页数:186页
- 主题词:特种加工-技术
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图书目录
第1章 微细加工技术简介1
1.1 微细加工技术的发展历程1
1.2 微细加工技术的发展趋势2
1.3 微细加工装备的研究现状和技术发展趋势3
1.4微细加工工艺的基本流程4
1.5 微细加工技术面临的挑战6
参考文献8
第2章 光学曝光技术9
2.1 接触式和接近式曝光技术10
2.2 光学投影成像曝光技术10
2.3.1抗蚀剂原理12
2.3光致抗蚀剂12
2.3.2 曝光过程的工艺模拟14
2.3.3 曝光工艺参数的模拟16
2.3.4 193 nm波长抗蚀剂18
2.4 光掩模制造技术20
2.4.1 掩模白版21
2.4.2 制版设备21
2.4.3 掩模缺陷23
2.5 193 nm光刻技术26
2.5.1 光刻物镜26
2.5.2 工件台系统26
2.5.4 逐场调平调焦系统28
2.5.3 高均匀高强度深紫外照明系统28
参考文献29
第3章 光学分辨率增强技术31
3.1 光学邻近效应校正技术(OPC)31
3.2 移相掩模技术(PSM)36
3.3 离轴照明技术44
3.4 光学曝光技术的局限47
参考文献49
第4章 电子束光刻技术51
4.1 电子束曝光系统概述51
4.2 电子束曝光系统的曝光原理55
4.3 电子束曝光系统的基本结构56
4.4 电子束抗蚀剂58
4.5 电子散射与邻近效应61
4.6 其他先进的电子束曝光系统67
参考文献73
第5章 X射线光刻技术75
5.1 X射线光刻的发展历史及技术特点75
5.2 X射线光刻技术的关键组成部分77
参考文献87
第6章 极端远紫外光刻技术88
6.1 EUVL的基本原理88
6.2 EUVL的光源89
6.3 EUVL的成像系统93
6.4 EUVL的光刻掩模98
6.5 EUVL的光刻技术展望101
参考文献104
第7章 刻蚀技术106
7.1 湿法刻蚀技术107
7.1.1 湿法刻蚀的几种过程108
7.1.2 湿法刻蚀的应用109
7.1.3 常用半导体材料和刻蚀110
7.1.4 化合物的选择腐蚀111
7.2.1 等离子刻蚀的简史113
7.2 干法刻蚀技术113
7.2.2刻蚀机理114
7.2.3 等离子体刻蚀的损伤116
7.2.4干法刻蚀的要求117
7.2.5 几种常用的刻蚀设备119
7.3 RIE刻蚀121
7.3.1 反应离子刻蚀分类121
7.3.2 RIE工艺研究的进展122
7.4 ICP刻蚀技术123
7.4.1 ICP刻蚀技术的优势123
7.4.2 ICP工艺研究125
参考文献132
7.5 今后的发展趋势和待解决的问题132
8.1 聚焦离子束技术(FIB)134
8.1.1 聚焦离子束技术概述134
第8章 其他纳米加工技术134
8.1.2 基本的聚焦离子束工艺137
8.1.3 聚焦离子束技术的应用139
8.2压印图形转移技术143
8.2.1 软刻印技术144
8.2.2 热压雕版压印法146
8.2.3 步进-闪光压印法157
8.2.4 激光辅助直接压印法160
8.3.1 侧墙掩模技术163
8.3 三维图形加工技术163
8.3.2各向异性腐蚀技术166
8.3.3 阳极氧化和剥离技术168
8.3.4残余应力技术169
8.3.5 悬空掩模双角蒸发技术171
8.4 自组织生长技术171
8.4.1 多孔氧化铝(AAO)模板法172
8.4.2颗粒结构薄膜法172
8.4.3 S-K模式法173
参考文献173