图书介绍
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- 上海无线电十七厂编 著
- 出版社： 上海：上海人民出版社
- ISBN：15.4.194
- 出版时间：1971
- 标注页数：72页
- 文件大小：15MB
- 文件页数：79页
- 主题词：
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图书目录
第一章 概述1
1-1光刻技术概况1
1-2 光刻工艺过程3
第二章 光致抗蚀剂6
2-1光致抗蚀剂的性能6
2-2光致抗蚀剂的配制9
2-3光致抗蚀剂的种类11
第三章 硅片表面清洁处理14
3-1 硅片表面清洁处理的目的14
3-2硅片表面清洁处理的方法15
第四章 涂敷感光胶18
4-1涂胶的方法和设备18
4-2改进涂胶效果的几种措施22
第五章 抗蚀剂膜的干燥（前烘）25
第六章 曝光27
6-1曝光工艺过程27
6-2光致抗蚀剂的分辨率29
6-3影响分辨率的几种因素30
第七章 显影35
7-1显影的要求35
7-2显影对光刻质量的影响36
第八章 抗蚀剂膜的坚固（坚膜）39
第九章 腐蚀40
9-1腐蚀的作用40
9-2腐蚀液的选择41
9-3二氧化硅的腐蚀44
9-4硅的腐蚀50
9-5 铝等金属的腐蚀51
第十章 抗蚀剂膜的去除（去胶）54
第十一章 光刻中常见的弊病及防止改进的措施55
第十二章 光刻技术的发展动态63
12-1大面积光刻63
12-2明室操作65
12-3投影光刻65
12-4 电子束光刻和离子束掺杂68