图书介绍
离子注入讲义 离子注入工艺部分 上PDF|Epub|txt|kindle电子书版本网盘下载
- 北京师范大学物理系 著
- 出版社： 北京师范大学物理系
- ISBN：
- 出版时间：1977
- 标注页数：103页
- 文件大小：2MB
- 文件页数：108页
- 主题词：
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图书目录
目录1
第一章 绪论1
第一节 半导体离子注入技术简介1
第二节 半导体基础知识简介10
第二章 注入离子在半导体中的射程分布27
第一节 有关射程分布的几个基本概念27
第二节 非晶靶中的射程分布28
第三节 非晶靶中的浓度分布的应用实例39
第四节 理论与实验的比较54
第五节 单晶靶中的射程分布62
第三章 晶？的损伤和退火72
第一节 幅射损伤72
第二节 退火83
第三节 增强扩散效应及其应用109