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基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究PDF|Epub|txt|kindle电子书版本网盘下载
![基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究](https://www.shukui.net/cover/66/34555280.jpg)
- 章嵩著 著
- 出版社: 北京:科学出版社
- ISBN:9787030553331
- 出版时间:2017
- 标注页数:90页
- 文件大小:11MB
- 文件页数:102页
- 主题词:富硼渣-激光淀积-研究
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图书目录
第1章 导论1
1.1 激光惯性约束核聚变2
1.1.1 激光惯性约束核聚变技术2
1.1.2 激光惯性约束核聚变靶丸材料4
1.2 B-C系列材料5
1.2.1 B-C系列材料的晶体结构5
1.2.2 B-C系列材料的研究现状8
1.2.3 B-C系列薄膜的研究现状10
第2章 富硼B-C陶瓷的制备、结构分析与成分控制13
2.1 引言13
2.2 实验与测试14
2.2.1 实验原料14
2.2.2 实验设计与工艺过程14
2.2.3 测试方法15
2.3 B-C系列陶瓷靶材的烧结致密化16
2.3.1 B-C陶瓷烧结体的致密度分析16
2.3.2 B-C陶瓷的物相分析17
2.3.3 B-C陶瓷的显微结构分析23
2.4 不同配比B-C陶瓷靶材的制备与成分控制27
2.4.1 不同配比B-C陶瓷的物相结构分析27
2.4.2 不同原子比B-C陶瓷的显微结构分析28
2.4.3 B-C陶瓷的化学组成分析与成分控制30
2.4.4 硼、碳原子的化学结构分析31
第3章 采用B-C陶瓷靶的富硼B-C薄膜脉冲激光沉积35
3.1 引言35
3.2 实验与测试36
3.2.1 实验原料36
3.2.2 实验设计与工艺过程36
3.2.3 测试方法39
3.3 富硼B-C薄膜的脉冲激光沉积工艺研究41
3.3.1 脉冲激光能量对薄膜沉积质量的影响41
3.3.2 靶-基距对薄膜沉积质量的影响46
3.4 B-C薄膜的成分研究49
3.4.1 B-C薄膜的化学组成分析与成分控制49
3.4.2 硼、碳原子的化学结构研究50
第4章 采用B-C拼合靶的富硼B-C薄膜脉冲激光沉积53
4.1 引言53
4.2 实验与测试54
4.2.1 实验原料54
4.2.2 实验设计与工艺过程55
4.2.3 测试方法57
4.3 B-C拼合靶的脉冲激光沉积工艺研究58
4.3.1 基板温度对薄膜沉积质量的影响58
4.3.2 靶材自转速度对薄膜沉积质量的影响64
4.4 B-C薄膜的成分分析与控制65
4.4.1 B-C薄膜的化学组成分析与成分控制65
4.4.2 硼、碳原子的化学结构分析66
4.5 B-C拼合靶的脉冲激光沉积过程分析68
4.5.1 脉冲激光沉积技术68
4.5.2 脉冲激光烧蚀靶材过程分析69
4.5.3 脉冲激光烧蚀产生等离子体的膨胀行为分析71
4.5.4 等离子体羽辉边界的求解75
4.5.5 B-C薄膜中原子比的理论计算77
本书总结81
参考文献83