图书介绍

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基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究
  • 章嵩著 著
  • 出版社: 北京:科学出版社
  • ISBN:9787030553331
  • 出版时间:2017
  • 标注页数:90页
  • 文件大小:11MB
  • 文件页数:102页
  • 主题词:富硼渣-激光淀积-研究

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图书目录

第1章 导论1

1.1 激光惯性约束核聚变2

1.1.1 激光惯性约束核聚变技术2

1.1.2 激光惯性约束核聚变靶丸材料4

1.2 B-C系列材料5

1.2.1 B-C系列材料的晶体结构5

1.2.2 B-C系列材料的研究现状8

1.2.3 B-C系列薄膜的研究现状10

第2章 富硼B-C陶瓷的制备、结构分析与成分控制13

2.1 引言13

2.2 实验与测试14

2.2.1 实验原料14

2.2.2 实验设计与工艺过程14

2.2.3 测试方法15

2.3 B-C系列陶瓷靶材的烧结致密化16

2.3.1 B-C陶瓷烧结体的致密度分析16

2.3.2 B-C陶瓷的物相分析17

2.3.3 B-C陶瓷的显微结构分析23

2.4 不同配比B-C陶瓷靶材的制备与成分控制27

2.4.1 不同配比B-C陶瓷的物相结构分析27

2.4.2 不同原子比B-C陶瓷的显微结构分析28

2.4.3 B-C陶瓷的化学组成分析与成分控制30

2.4.4 硼、碳原子的化学结构分析31

第3章 采用B-C陶瓷靶的富硼B-C薄膜脉冲激光沉积35

3.1 引言35

3.2 实验与测试36

3.2.1 实验原料36

3.2.2 实验设计与工艺过程36

3.2.3 测试方法39

3.3 富硼B-C薄膜的脉冲激光沉积工艺研究41

3.3.1 脉冲激光能量对薄膜沉积质量的影响41

3.3.2 靶-基距对薄膜沉积质量的影响46

3.4 B-C薄膜的成分研究49

3.4.1 B-C薄膜的化学组成分析与成分控制49

3.4.2 硼、碳原子的化学结构研究50

第4章 采用B-C拼合靶的富硼B-C薄膜脉冲激光沉积53

4.1 引言53

4.2 实验与测试54

4.2.1 实验原料54

4.2.2 实验设计与工艺过程55

4.2.3 测试方法57

4.3 B-C拼合靶的脉冲激光沉积工艺研究58

4.3.1 基板温度对薄膜沉积质量的影响58

4.3.2 靶材自转速度对薄膜沉积质量的影响64

4.4 B-C薄膜的成分分析与控制65

4.4.1 B-C薄膜的化学组成分析与成分控制65

4.4.2 硼、碳原子的化学结构分析66

4.5 B-C拼合靶的脉冲激光沉积过程分析68

4.5.1 脉冲激光沉积技术68

4.5.2 脉冲激光烧蚀靶材过程分析69

4.5.3 脉冲激光烧蚀产生等离子体的膨胀行为分析71

4.5.4 等离子体羽辉边界的求解75

4.5.5 B-C薄膜中原子比的理论计算77

本书总结81

参考文献83

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