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第1章 硅化钼简述1

1.1 硅化钼的晶体结构1

1.2 硅化钼的相图3

1.3 硅化钼的性能4

1.3.1 力学性能4

1.3.2 氧化性能5

1.3.3 摩擦磨损性能6

1.4 硅化钼的发展简述10

1.5 硅化钼的制备技术11

1.5.1 机械合金化11

1.5.2 自蔓延高温合成12

1.5.3 放电等离子烧结14

1.6 硅化钼的应用前景16

1.6.1 高温结构材料16

1.6.2 发热元件16

1.6.3 高温抗氧化涂层17

参考文献18

第2章 氧化基本理论25

2.1 引言25

2.2 氧化的基本过程25

2.3 氧化的主要影响因素27

2.3.1 材料特性27

2.3.2 氧化膜性质27

2.3.3 氧化膜/金属界面27

2.3.4 氧化膜/气体界面28

2.3.5 气相环境28

2.4 氧化热力学28

2.4.1 基本氧化热力学28

2.4.2 硅化钼氧化反应的△Gθ-T图31

2.4.3 挥发性物质对氧化的影响32

2.5 氧化动力学32

2.5.1 静态氧化动力学规律32

2.5.2 循环氧化动力学35

2.6 氧化基础理论35

2.6.1 纯金属的氧化理论35

2.6.2 合金的氧化40

2.7 氧化的测试与研究方法43

2.7.1 引言43

2.7.2 氧化动力学实验44

2.7.3 氧化膜的传质实验45

2.7.4 氧化样品的观察与分析45

参考文献46

第3章 硅化钼的氧化47

3.1 二硅化钼（ MoSi2）的氧化47

3.1.1 低温氧化（400～700℃）47

3.1.2 高温氧化64

3.2 三硅化五钼（ Mo5Si3）的氧化76

3.3 硅化三钼（ Mo3Si）的氧化81

3.3.1 Mo3Si的氧化81

3.3.2 Mo3Si-Mo5Si3的氧化82

参考文献84

第4章 二硅化钼基复合材料的氧化88

4.1 Al/MoSi2复合材料的氧化性能88

4.1.1 低温氧化性能88

4.1.2 高温氧化性能92

4.2 WSi2/MoSi2复合材料的氧化106

4.2.1 低温氧化性能106

4.2.2 高温氧化性能111

4.3 稀土/MoSi2复合材料氧化行为115

4.3.1 低温氧化性能115

4.3.2 高温氧化性能118

4.4 SiC/MoSi2复合材料的氧化行为121

4.4.1 低温氧化性能121

4.4.2 高温氧化性能123

4.5 Mo5Si3/MoSi2复合材料127

4.5.1 低温氧化性能127

4.5.2 高温氧化性能130

4.5.3 0.8% La2O3（质量分数）- Mo5Si3/MoSi2复合材料的高温氧化行为134

4.6 CNTs/MoSi2复合材料138

4.6.1 低温氧化性能138

4.6.2 高温氧化性能141

4.7 其他部分MoSi2基复合材料的高温氧化性能144

参考文献148

第5章 硅化钼涂层的氧化152

5.1 硅化钼涂层的设计152

5.2 硅化钼涂层的制备154

5.2.1 料浆法154

5.2.2 气相沉积法155

5.2.3 粉末包渗法156

5.2.4 等离子喷涂法157

5.2.5 熔盐法158

5.2.6 其他制备方法159

5.3 硅化钼涂层的氧化159

5.3.1 钼基硅化钼涂层的氧化159

5.3.2 镍基硅化钼涂层的氧化190

5.3.3 铌基硅化钼涂层的氧化203

5.3.4 碳基硅化钼涂层的氧化215

5.4 硅化钼涂层的发展趋势224

参考文献225