图书介绍
可关断可控硅PDF|Epub|txt|kindle电子书版本网盘下载
- 北京市可关断可控硅会战组编 著
- 出版社： 北京市可关断可控硅会战组
- ISBN：
- 出版时间：1972
- 标注页数：92页
- 文件大小：858MB
- 文件页数：97页
- 主题词：
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可关断可控硅PDF格式电子书版下载
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图书目录
目录1
概述1
一、可关断可控硅工作原理和结构特点3
1-1．可关断可控硅工作原理3
1-2．结构特点5
1-2-1．厚的n基区和较薄的ρ基区5
1-2-2．较小的阴极宽度5
二、可关断可控硅主要参数，基本结构和8
工艺路线的选择8
2-1．关断增益对α1和α2提出的要求8
2-2．耐压对材料和结构提出的要求10
2-3．基本结构16
三、可关断可控硅工艺原理和工艺过程20
3-1．工艺流程20
3-2．硅片研磨和抛光21
3-3．扩镓22
3-3-1．杂质源的选取和制造22
3-3-2．扩散温度和时间的选择23
3-3-3．工艺过程25
3-4．氧化26
3-4-1．氧化层（SiO2）的厚度和氧化条件的选择26
3-4-2．氧化工艺过程27
3-5．一次光刻28
3-5-1．光刻胶的配制28
3-5-2．光刻29
3-6．扩磷30
3-6-1．扩散方法和杂质源30
3-6-2．工艺过程33
3-7-2．工艺过程34
3-7．重金属杂质的吸收34
3-7-1．吸收目的34
3-8．扩金35
3-8-1．扩金的原理和目的35
3-8-2．工艺过程35
3-9．烧阳极欧姆结36
3-10．蒸铝37
3-11．二次光刻（反刻铝）37
3-12．控制极——阴极结的腐蚀和合金化38
3-13．磨角、腐蚀和表面保护38
3-14．焊接和密封39
四、可关断可控硅的测试40
4-1．中间测试40
4-2-1．线路原理45
4-2．动态特性45
4-2-2．试验结果55
4-2-2-1．频率（f）与关断增益（Boff）的关系55
4-2-2-2．控制极脉冲与动态参数的关系57
4-2-2-3．占空系数η与关断电流，59
关断增益的关系59
4-2-2-4．关断增益与阳极电流的关系59
4-2-2-5．关断电流IA与电源电压的关系61
4-2-2-6．温度与关断电流IA的关系62
4-2-2-7．正向电压上升率62
五、（附录一）可关断可控硅的功率损耗65
六、（附录二）可关断可控硅技术标准（暂定）70
七、（附录三）5A可关断可控硅零部件规格图册77
八、（附录四）10A可关断可控硅零部件规格图册84