图书介绍
多晶硅发射极晶体管及其集成电路PDF|Epub|txt|kindle电子书版本网盘下载
- 王阳元等编译 著
- 出版社： 北京：科学出版社
- ISBN：7030033558
- 出版时间：1992
- 标注页数：568页
- 文件大小：26MB
- 文件页数：576页
- 主题词：
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图书目录
目录3
综述3
双极技术发展趋势3
多晶硅发射极双极晶体管的理论和实验24
亚微米与亚半微米双极技术58
理论模型75
SIS隧道发射：薄界面层发射区理论75
发射极接触对硅双极器件电流增益的影响88
界面层在多晶硅发射极双极晶体管中的作用96
多晶硅发射极双极晶体管的解析和数值综合模型114
多晶硅发射区的热离子发射-扩散模型143
不连续类氧化层界面多晶硅发射极晶体管理论模型149
多晶硅发射区中的少数载流子注入理论165
实验研究177
砷注入多晶硅发射极高性能晶体管177
多晶硅发射极晶体管实验结果和理论结果的比较185
具有薄界面氧化层的多晶硅发射极的电导机制202
具有多晶硅隧道结发射区接触的高增益双极晶体管210
少数载流子在多晶硅／单晶硅界面传输的实验研究227
多晶硅发射极双极晶体管中增益的增强和基区掺杂之间折衷关系的研究251
多子和少子在多晶硅发射区接触中的传输270
砷和磷掺杂的多晶硅发射极晶体管的发射极电阻279
人为生长界面氧化层的多晶硅发射极晶体管的发射极电阻与电流增益的折衷关系研究286
多晶硅接触的n+-p结中界面的扩散势垒和电学势垒的关系292
超大规模集成电路中双极晶体管多晶硅发射极接触的物理、技术和模型303
砷和磷掺杂多晶硅发射极双极晶体管实验结果与计算结果的比较337
薄界面氧化层对硅双极器件电学性能的影响353
多晶硅发射极双极晶体管中界面氧化层热稳定性的研究363
多晶硅薄膜氧化动力学382
集成电路中多晶硅薄膜载流子迁移率的实验研究和理论模型396
多晶硅发射极接触双极晶体管的发射区和基区渡越时间407
工艺技术与应用425
一种先进的高性能沟槽隔离自对准双极技术425
采用硼砷多晶硅工艺的高速双极技术的工艺和器件特性441
HE工艺：一种用于模拟和数字电路的先进沟槽隔离双极技术461
以ZrN作掩模和用SF6作反应气体的深槽刻蚀工艺469
先进高性能ECL电路中沟槽隔离电容按比例缩小性质的研究472
BSA：基区结深小于0.1μm的双极晶体管技术483
先进的自对准双极晶体管的穿通特性489
先进窄发射区双极晶体管的尺寸缩小对瞬态特性的影响502
采用超自对准工艺技术制作30ps的硅双极集成电路512
双极VLSI中的自对准多晶硅发射极晶体管524
单层多晶硅自对准基极和亚微米发射极接触的高速双极技术537
纵向隔离自对准晶体管——VIST543
3GHz的横向pnp晶体管555
73GHz自对准锗硅基区和磷掺杂多晶硅发射极双极晶体管562